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Defects in He+ irradiated 6H-SiC probed by DLTS and LTPL measurements
2004-01-01 Ruggiero, A.; Libertino, S.; Mauceri, M.; Reitano, Riccardo; Musumeci, Paolo; Roccaforte, F.; LA VIA, F.; Calcagno, L.
Optimisation of epitaxial layer growth by Schottky diodes electrical characterization
file da validare2006-01-01 LA VIA, F; Galvagno, G; Firrincieli, A; Roccaforte, F; DI FRANCO, S; Ruggiero, A; Calcagno, Lucia; Foti, G; Mauceri, M; Leone, S; Pistone, G; Portuese, F; Abbondanza, G; Abbagnale, G; Valente, G. L.; Crippa, D.
Optimisation of epitaxial layers growth with HCl addition by optical and electrical characterization
file da validare2007-01-01 Calcagno, L; Izzo, G; Litrico, G; Foti, G; LA VIA, F; Galvagno, G; Mauceri, M; Leone, S
Post-growth process effect on hetero-epitxial 3C-SiC wafer bow and residual stress
file da validare2013-01-01 Anzalone, R.; Camarda, M.; Auditore, A.; Piluso, N.; Severino, A.; La Magna, A.; D'Arrigo, G.; La Via, F.
Thermal annealing of high dose p implantation in 4H-SiC
file da validare2019-01-01 Calabretta, C.; Zimbone, M.; Barbagiovanni, E. G.; Boninelli, S.; Piluso, N.; Severino, A.; Di Stefano, M. A.; Lorenti, S.; Calcagno, L.; La Via, F.
Very high growth rate epitaxy process with chlorine addition
file da validare2007-01-01 LA VIA, F; Leone, S; Mauceri, M; Pistone, G; Condorelli, G; Abbondanza, G; Portuese, F; Galvagno, G; DI FRANCO, S; Calcagno, Lucia; Foti, G; Valente, G. L.; Crippa, D.
Titolo | Data di pubblicazione | Autore(i) | File |
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Defects in He+ irradiated 6H-SiC probed by DLTS and LTPL measurements | 1-gen-2004 | Ruggiero, A.; Libertino, S.; Mauceri, M.; Reitano, Riccardo; Musumeci, Paolo; Roccaforte, F.; LA VIA, F.; Calcagno, L. | |
Optimisation of epitaxial layer growth by Schottky diodes electrical characterization | 1-gen-2006 | LA VIA, F; Galvagno, G; Firrincieli, A; Roccaforte, F; DI FRANCO, S; Ruggiero, A; Calcagno, Lucia; Foti, G; Mauceri, M; Leone, S; Pistone, G; Portuese, F; Abbondanza, G; Abbagnale, G; Valente, G. L.; Crippa, D. | file da validare |
Optimisation of epitaxial layers growth with HCl addition by optical and electrical characterization | 1-gen-2007 | Calcagno, L; Izzo, G; Litrico, G; Foti, G; LA VIA, F; Galvagno, G; Mauceri, M; Leone, S | file da validare |
Post-growth process effect on hetero-epitxial 3C-SiC wafer bow and residual stress | 1-gen-2013 | Anzalone, R.; Camarda, M.; Auditore, A.; Piluso, N.; Severino, A.; La Magna, A.; D'Arrigo, G.; La Via, F. | file da validare |
Thermal annealing of high dose p implantation in 4H-SiC | 1-gen-2019 | Calabretta, C.; Zimbone, M.; Barbagiovanni, E. G.; Boninelli, S.; Piluso, N.; Severino, A.; Di Stefano, M. A.; Lorenti, S.; Calcagno, L.; La Via, F. | file da validare |
Very high growth rate epitaxy process with chlorine addition | 1-gen-2007 | LA VIA, F; Leone, S; Mauceri, M; Pistone, G; Condorelli, G; Abbondanza, G; Portuese, F; Galvagno, G; DI FRANCO, S; Calcagno, Lucia; Foti, G; Valente, G. L.; Crippa, D. | file da validare |
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