Effect of a Ta interlayer on the Titanium Silicide Reaction: C40 Formation and Higher Scalability of the TiSi2 Process
MAMMOLITI, FRANCESCO;GRIMALDI, Maria Grazia
2001-01-01
File in questo prodotto:
File | Dimensione | Formato | |
---|---|---|---|
04.mrsproc2.pdf
solo gestori archivio
Tipologia:
Versione Editoriale (PDF)
Licenza:
Non specificato
Dimensione
668.33 kB
Formato
Adobe PDF
|
668.33 kB | Adobe PDF | Visualizza/Apri |
I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.