Complete suppression of the Transient Enhanced Diffusion of B implanted in preamorphized silicon by interstitials trapping in a spatially separeted C-rich layer / E. Napolitani; A. Coati; D. De Salvador; A. Carnera; Mirabella S; S. Scalese; F. Priolo. - (2002).
Titolo: | Complete suppression of the Transient Enhanced Diffusion of B implanted in preamorphized silicon by interstitials trapping in a spatially separeted C-rich layer |
Autori interni: | |
Data di pubblicazione: | 2002 |
Handle: | http://hdl.handle.net/20.500.11769/74037 |
Appare nelle tipologie: | 4.1 Contributo in Atti di convegno |
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