Silicon Nanocrystal Nucleation as a Function of the Annealing Temperature in SiOx Films

Anno

2003

Appare nelle tipologie:

File in questo prodotto:

Non ci sono file associati a questo prodotto.

I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.

Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/20.500.11769/89733