E’ stato studiato il comportamento alla fotodegradazione di miscele polistirene/surfactante imidazolico (con strutture derivate dall’1-vinil-3-alchil imidazolo, dall’1-decil-2-metil-3-alchil imidazolo e dall’1-metil-3-alchil imidazolo) e di miscele polistirene-catione alchilammonico e polistirene-nanosilice. Tra le miscele preparate, quelle che contengono i derivati dell’1-metilimidazolo sono le più stabili. Queste si fotoossidano più rapidamente del PS ma con una cinetica più lenta rispetto alle altre miscele. Questa diversa stabilità si riflette sulle cinetiche di fotodegradazione dei corrispondenti nanocompositi PS/argilla
Influenza della struttura del surfactante imidazolico sulla stabilità alla fotoossidazione di nanocompositi polistirene/argilla
POLLICINO, Antonino;DI PASQUALE, Giovanna;
2011-01-01
Abstract
E’ stato studiato il comportamento alla fotodegradazione di miscele polistirene/surfactante imidazolico (con strutture derivate dall’1-vinil-3-alchil imidazolo, dall’1-decil-2-metil-3-alchil imidazolo e dall’1-metil-3-alchil imidazolo) e di miscele polistirene-catione alchilammonico e polistirene-nanosilice. Tra le miscele preparate, quelle che contengono i derivati dell’1-metilimidazolo sono le più stabili. Queste si fotoossidano più rapidamente del PS ma con una cinetica più lenta rispetto alle altre miscele. Questa diversa stabilità si riflette sulle cinetiche di fotodegradazione dei corrispondenti nanocompositi PS/argillaFile in questo prodotto:
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