Effects of a Ta Interlayer on the Titanium Silicide Reaction: C40 Formation and Higher Scalability of the TiSi2 Process

GRIMALDI, Maria Grazia
2002-01-01

File in questo prodotto:
Non ci sono file associati a questo prodotto.

I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.

Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/20.500.11769/91976
Citazioni
  • ???jsp.display-item.citation.pmc??? ND
  • Scopus ND
  • ???jsp.display-item.citation.isi??? ND
social impact