Effects of a Ta Interlayer on the Titanium Silicide Reaction: C40 Formation and Higher Scalability of the TiSi2 Process
GRIMALDI, Maria Grazia
2002-01-01
File in questo prodotto:
Non ci sono file associati a questo prodotto.
I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.