SAMPERI, ORAZIO
 Distribuzione geografica
Continente #
AS - Asia 101
NA - Nord America 69
EU - Europa 64
SA - Sud America 10
AF - Africa 8
Continente sconosciuto - Info sul continente non disponibili 1
Totale 253
Nazione #
US - Stati Uniti d'America 69
IT - Italia 33
CN - Cina 30
SG - Singapore 28
BD - Bangladesh 16
RU - Federazione Russa 15
KR - Corea 10
BR - Brasile 7
VN - Vietnam 6
CI - Costa d'Avorio 3
GB - Regno Unito 3
HK - Hong Kong 3
IE - Irlanda 3
NL - Olanda 3
AR - Argentina 2
ET - Etiopia 2
FR - Francia 2
IN - India 2
NG - Nigeria 2
TW - Taiwan 2
AT - Austria 1
BJ - Benin 1
CW - ???statistics.table.value.countryCode.CW??? 1
EC - Ecuador 1
HU - Ungheria 1
IL - Israele 1
JP - Giappone 1
LT - Lituania 1
MY - Malesia 1
PL - Polonia 1
TR - Turchia 1
UA - Ucraina 1
Totale 253
Città #
Dallas 13
Hefei 13
Singapore 12
San Jose 11
Moscow 9
Seoul 9
Ashburn 8
Catania 7
Milan 7
Los Angeles 4
Palermo 4
Abidjan 3
Beijing 3
Dublin 3
Hong Kong 3
Santa Clara 3
Aci Castello 2
Boardman 2
Castelvetrano 2
Council Bluffs 2
Da Nang 2
Hanoi 2
Ho Chi Minh City 2
Lauterbourg 2
New York 2
Rome 2
San Antonio 2
Abuja 1
Addis Ababa 1
Awasa 1
Budapest 1
Charleston 1
Charlottesville 1
Chennai 1
Chicago 1
Cotonou 1
Denver 1
Ebara 1
Fort Worth 1
Hangzhou 1
Hsinchu 1
Istanbul 1
Kajang 1
Lagos 1
Lucca 1
Memphis 1
Mumbai 1
Odesa 1
Onalaska 1
Orem 1
Panambi 1
Paulina 1
Paulistana 1
Piracicaba 1
Porto Real 1
Quito 1
Richland 1
Richmond 1
Shanghai 1
Springfield 1
Tremestieri Etneo 1
Ubatuba 1
Ubá 1
Venice 1
Villa Allende 1
Villa Carlos Paz 1
Vitória de Santo Antão 1
Willemstad 1
Wuhan 1
Totale 176
Nome #
Hydrogen depth profiling and multi-energy proton implantation: SIMS as a tool for implant process control 107
Deep ion implantation of silicon and silicon carbide for power electronics applications: depth profiling of medium energy proton implants and channelling implants of industrial interest [Impiantazione ionica profonda in silicio e carburo di silicio per applicazioni nell’elettronica di potenza: depth profiling di impianti protonici di media energia e impianti in channelling di interesse industriale] 76
Differences in HF Wet Etching Resistance of PECVD SiNx:H thin films 73
Totale 256
Categoria #
all - tutte 573
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book - libri 0
conference - conferenze 0
curatela - curatele 0
other - altro 0
patent - brevetti 0
selected - selezionate 0
volume - volumi 0
Totale 573


Totale Lug Ago Sett Ott Nov Dic Gen Feb Mar Apr Mag Giu
2024/202563 11 3 7 7 6 3 3 8 2 5 3 5
2025/2026193 11 18 21 14 17 19 18 4 11 7 21 32
Totale 256