LASER ANNEALING OF BI IMPLANTED (111) AND (100) SILICON / CAMPISANO SU; BAERI P; GRIMALDI MG; BONTEMPS A; DANIELOU R; FLOCCARI M; BRUEL M. - In: APPLIED PHYSICS. - ISSN 0340-3793. - 25:1(1981), pp. 57-63.
Titolo: | LASER ANNEALING OF BI IMPLANTED (111) AND (100) SILICON |
Autori interni: | |
Data di pubblicazione: | 1981 |
Rivista: | |
Citazione: | LASER ANNEALING OF BI IMPLANTED (111) AND (100) SILICON / CAMPISANO SU; BAERI P; GRIMALDI MG; BONTEMPS A; DANIELOU R; FLOCCARI M; BRUEL M. - In: APPLIED PHYSICS. - ISSN 0340-3793. - 25:1(1981), pp. 57-63. |
Handle: | http://hdl.handle.net/20.500.11769/11643 |
Appare nelle tipologie: | 1.1 Articolo in rivista |
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