LASER ANNEALING OF BI IMPLANTED (111) AND (100) SILICON

Campisano, Su; Baeri, P; Grimaldi, Maria Grazia; Bontemps, A; Danielou, R; Floccari, M; Bruel, M.

doi:10.1007/BF00935392

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LASER ANNEALING OF BI IMPLANTED (111) AND (100) SILICON / CAMPISANO SU; BAERI P; GRIMALDI MG; BONTEMPS A; DANIELOU R; FLOCCARI M; BRUEL M. - In: APPLIED PHYSICS. - ISSN 0340-3793. - 25:1(1981), pp. 57-63.

Titolo:	LASER ANNEALING OF BI IMPLANTED (111) AND (100) SILICON
Autori interni:	CAMPISANO SU BAERI P GRIMALDI, Maria Grazia BONTEMPS A DANIELOU R FLOCCARI M BRUEL M. mostra contributor esterni nascondi contributor esterni
Data di pubblicazione:	1981
Rivista:	APPLIED PHYSICS
Citazione:	LASER ANNEALING OF BI IMPLANTED (111) AND (100) SILICON / CAMPISANO SU; BAERI P; GRIMALDI MG; BONTEMPS A; DANIELOU R; FLOCCARI M; BRUEL M. - In: APPLIED PHYSICS. - ISSN 0340-3793. - 25:1(1981), pp. 57-63.
Handle:	http://hdl.handle.net/20.500.11769/11643
Appare nelle tipologie:	1.1 Articolo in rivista

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http://hdl.handle.net/20.500.11769/11643

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