Ion versus neutral irradiation of thin films of amorphous SiO2: an in situ photoelectron spectroscopic study
TORRISI, Alberto;PUGLISI, Orazio Gaetano
1996-01-01
File in questo prodotto:
Non ci sono file associati a questo prodotto.
I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.