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IRIS
Calcium copper titanate, CaCU3Ti4O12 (CCTO), thin films have been fabricated by Metal Organic Chemical Vapor Deposition on silicon substrates buffered with two different low-k interlayers, namely SiO2 and Si3N4. Depositions have been carried out from a molten mixture consisting of the Ca (hfa)2 center dot tetraglyme, Ti(tmhd)(2)(O-iPr)(2), and Cu(tmhd)(2) [Hhfa=1,1,1,5,5,5-hexafluoro-2,4-pentanedione; tetraglyme=2,5,8,11,14-pentaoxapentadecane; Htmhd=2,2,6,6-tetramethyl-3,5-heptandione; O-iPr=iso-propoxide] precursors. The chemical stability of CCTO films on both the SiO2 and Si3N4 low-k layers has been investigated by transmission electron microscopy in the perspective of their implementation in capacitor devices. (C) 2006 Elsevier B.V. All rights reserved.
Chemical stability of CaCu3Ti4O12 thin films grown by MOCVD on different substrates
Calcium copper titanate, CaCU3Ti4O12 (CCTO), thin films have been fabricated by Metal Organic Chemical Vapor Deposition on silicon substrates buffered with two different low-k interlayers, namely SiO2 and Si3N4. Depositions have been carried out from a molten mixture consisting of the Ca (hfa)2 center dot tetraglyme, Ti(tmhd)(2)(O-iPr)(2), and Cu(tmhd)(2) [Hhfa=1,1,1,5,5,5-hexafluoro-2,4-pentanedione; tetraglyme=2,5,8,11,14-pentaoxapentadecane; Htmhd=2,2,6,6-tetramethyl-3,5-heptandione; O-iPr=iso-propoxide] precursors. The chemical stability of CCTO films on both the SiO2 and Si3N4 low-k layers has been investigated by transmission electron microscopy in the perspective of their implementation in capacitor devices. (C) 2006 Elsevier B.V. All rights reserved.
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simulazione ASN
Il report seguente simula gli indicatori relativi alla propria produzione scientifica in relazione alle soglie ASN 2021-2023 del proprio SC/SSD. Si ricorda che il superamento dei valori soglia (almeno 2 su 3) è requisito necessario ma non sufficiente al conseguimento dell'abilitazione. La simulazione si basa sui dati IRIS e sugli indicatori bibliometrici alla data indicata e non tiene conto di eventuali periodi di congedo obbligatorio, che in sede di domanda ASN danno diritto a incrementi percentuali dei valori. La simulazione può differire dall'esito di un’eventuale domanda ASN sia per errori di catalogazione e/o dati mancanti in IRIS, sia per la variabilità dei dati bibliometrici nel tempo. Si consideri che Anvur calcola i valori degli indicatori all'ultima data utile per la presentazione delle domande.
La presente simulazione è stata realizzata sulla base delle specifiche raccolte sul tavolo ER del Focus Group IRIS coordinato dall’Università di Modena e Reggio Emilia e delle regole riportate nel DM 589/2018 e allegata Tabella A. Cineca, l’Università di Modena e Reggio Emilia e il Focus Group IRIS non si assumono alcuna responsabilità in merito all’uso che il diretto interessato o terzi faranno della simulazione. Si specifica inoltre che la simulazione contiene calcoli effettuati con dati e algoritmi di pubblico dominio e deve quindi essere considerata come un mero ausilio al calcolo svolgibile manualmente o con strumenti equivalenti.
