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EnglishSilicon nanocrystal formation in annealed silicon-rich silicon oxide films prepared by plasma enhanced chemical vapour deposition / DALDOSSO N; DAS G; LARCHERI S; MARIOTTO G; DALBA G; PAVESI L; IRRERA A; PRIOLO F; IACONA F; ROCCA F. - In: JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. - ISSN 0021-8979. - 101:(2007), pp. 113510-113510. [10.1063/1.2740335]
| Titolo: | Silicon nanocrystal formation in annealed silicon-rich silicon oxide films prepared by plasma enhanced chemical vapour deposition | |
| Autori interni: | ||
| Data di pubblicazione: | 2007 | |
| Rivista: | ||
| Handle: | http://hdl.handle.net/20.500.11769/34812 | |
| Appare nelle tipologie: | 1.1 Articolo in rivista |
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http://hdl.handle.net/20.500.11769/34812
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