CINECA IRIS Institutional Research Information System
IRIS è la soluzione IT che facilita la raccolta e la gestione dei dati relativi alle attività e ai prodotti della ricerca. Fornisce a ricercatori, amministratori e valutatori gli strumenti per monitorare i risultati della ricerca, aumentarne la visibilità e allocare in modo efficace le risorse disponibili.
EnglishA complete set up of optimal process conditions for an effective colloidal lithography/catalyst assisted MOCVD process integration is presented. It mainly focuses on the determination of the deposition temperature threshold for ZnO Metal-Organic Chemical Vapour Deposition (MOCVD) as well as the concentration of metal-organic silver (Ag) catalyst. Indeed, the optimization of such process parameters allows to tailor the ZnO film morphology in order to make the colloidal lithography/catalyst assisted MOCVD approach a valuable bottom up method to fabricate bi-dimensional ordered ZnO nanohole arrays. (C) 2010 Elsevier B.V. All rights reserved.
| Titolo: | Colloidal lithography and Metal-Organic Chemical Vapor Deposition process integration to fabricate ZnO nanohole arrays | |
| Autori interni: | ||
| Data di pubblicazione: | 2010 | |
| Rivista: | ||
| Handle: | http://hdl.handle.net/20.500.11769/39425 | |
| Appare nelle tipologie: | 1.1 Articolo in rivista |
File in questo prodotto:
http://hdl.handle.net/20.500.11769/39425
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