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EnglishB diffusion and activation phenomena during post-annealing of C co-implanted ultra-shallow junctions / DI MARINO M; NAPOLITANI E; MASTROMATTEO M; BISOGNIN G; DE SALVADOR D; CARNERA A; MIRABELLA S; IMPELLIZZERI G; PRIOLO F; GRAOUI H; FOAD M. A. - In: NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH. SECTION B, BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS. - ISSN 0168-583X. - 253(2006), pp. 46-49.
| Titolo: | B diffusion and activation phenomena during post-annealing of C co-implanted ultra-shallow junctions |
| Autori interni: | |
| Data di pubblicazione: | 2006 |
| Rivista: | |
| Citazione: | B diffusion and activation phenomena during post-annealing of C co-implanted ultra-shallow junctions / DI MARINO M; NAPOLITANI E; MASTROMATTEO M; BISOGNIN G; DE SALVADOR D; CARNERA A; MIRABELLA S; IMPELLIZZERI G; PRIOLO F; GRAOUI H; FOAD M. A. - In: NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH. SECTION B, BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS. - ISSN 0168-583X. - 253(2006), pp. 46-49. |
| Handle: | http://hdl.handle.net/20.500.11769/5095 |
| Appare nelle tipologie: | 1.1 Articolo in rivista |
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http://hdl.handle.net/20.500.11769/5095
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