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EnglishEffects of annealing temperature on the inhomogeneity degree of nickel silicide/SiC Schottky barrier / CALCAGNO L; A. RUGGIERO; F. ROCCAFORTE AND F. LA VIA. - In: JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. - ISSN 0021-8979. - 98(2005), pp. 23713-23718.
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http://hdl.handle.net/20.500.11769/7501| Titolo: | Effects of annealing temperature on the inhomogeneity degree of nickel silicide/SiC Schottky barrier |
| Autori interni: | CALCAGNO, Lucia |
| Data di pubblicazione: | 2005 |
| Rivista: | JOURNAL OF APPLIED PHYSICS |
| Handle: | http://hdl.handle.net/20.500.11769/7501 |
| Appare nelle tipologie: | 1.1 Articolo in rivista |
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