Effects of annealing temperature on the inhomogeneity degree of nickel silicide/SiC Schottky barrier

Calcagno, L; Ruggiero, A.; Roccaforte, F.; LA VIA, F.

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Effects of annealing temperature on the inhomogeneity degree of nickel silicide/SiC Schottky barrier / Calcagno, L; Ruggiero, A.; Roccaforte, F.; LA VIA, F.. - In: JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. - ISSN 0021-8979. - 98(2005), pp. 23713-23718.

Titolo:	Effects of annealing temperature on the inhomogeneity degree of nickel silicide/SiC Schottky barrier
Autori interni:	CALCAGNO, Lucia A. RUGGIERO ROCCAFORTE, FABRIZIO F. LA VIA mostra contributor esterni nascondi contributor esterni
Data di pubblicazione:	2005
Rivista:	JOURNAL OF APPLIED PHYSICS
Citazione:	Effects of annealing temperature on the inhomogeneity degree of nickel silicide/SiC Schottky barrier / Calcagno, L; Ruggiero, A.; Roccaforte, F.; LA VIA, F.. - In: JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. - ISSN 0021-8979. - 98(2005), pp. 23713-23718.
Handle:	http://hdl.handle.net/20.500.11769/7501
Appare nelle tipologie:	1.1 Articolo in rivista

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http://hdl.handle.net/20.500.11769/7501

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