Effects of annealing temperature on the inhomogeneity degree of nickel silicide/SiC Schottky barrier / Calcagno, L; Ruggiero, A.; Roccaforte, F.; LA VIA, F.. - In: JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. - ISSN 0021-8979. - 98(2005), pp. 23713-23718.
Titolo: | Effects of annealing temperature on the inhomogeneity degree of nickel silicide/SiC Schottky barrier |
Autori interni: | |
Data di pubblicazione: | 2005 |
Rivista: | |
Citazione: | Effects of annealing temperature on the inhomogeneity degree of nickel silicide/SiC Schottky barrier / Calcagno, L; Ruggiero, A.; Roccaforte, F.; LA VIA, F.. - In: JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. - ISSN 0021-8979. - 98(2005), pp. 23713-23718. |
Handle: | http://hdl.handle.net/20.500.11769/7501 |
Appare nelle tipologie: | 1.1 Articolo in rivista |
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