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High-resolution X-ray diffraction by end of range defects in self-amorphized Ge 1-gen-2008 Bisognin, G; Vangelista, S; Bruno, Elena
In situ thermal evolution of B-B pairs in crystalline Si: a spectroscopic high resolution x-ray diffraction study 1-gen-2008 Bisognin, G; De Salvador, D; Napolitani, E; Carnera, A; Bruno, Elena; Mirabella, Salvatore; Piro, Am; Romano, Lucia; Grimaldi, Maria Grazia
Experimental investigations of boron diffusion mechanism in crystalline and amorphous silicon 1-gen-2008 D., DE SALVADOR; E., Napolitani; Mirabella, Salvatore; Bruno, Elena; G., Impellizzeri; G., Bisognin; E. F., Pecora; Priolo, Francesco; A., Carnera
B electrical activation in crystalline and preamorphized Ge 1-gen-2008 Bruno, Elena; Impellizzeri, G; Mirabella, Salvatore; Piro, A. M.; Irrera, A.; Grimaldi, Maria Grazia
Mechanism of Boron Diffusion in Amorphous Silicon 1-gen-2008 Mirabella, Salvatore; DE SALVADOR, D; Bruno, Elena; Napolitani, E; Pecora, E. F.; Boninelli, S; Priolo, Francesco
He implantation to control B diffusion in crystalline and preamorphized Si 1-gen-2008 Bruno, Elena; Mirabella, Salvatore; Priolo, Francesco; Kuitunen, K; Tuomisto, F; Slotte, J; Giannazzo, F; Bongiorno, C; Raineri, V; Napolitani, E.
Evolution of boron-interstitial clusters in preamorphized silicon without the contribution of end-of-range defects 1-gen-2008 Aboy, M; Pelaz, L; Lopez, P; Bruno, Elena; Mirabella, Salvatore; Napolitani, E.
Activation and carrier mobility in high fluence B implanted germanium 1-gen-2008 Mirabella, Salvatore; Impellizzeri, G; Piro, Am; Bruno, Elena; Grimaldi, Maria Grazia
Effects of hydrogen implantation temperature on InP surface blistering 1-gen-2008 Chen, P; Di, Zf; Nastasi, M; Bruno, Elena; Grimaldi, Maria Grazia; Theodore, Nd; Lau, Ss
Role of C in the formation and kinetics of nanovoids induced by He+ implantation in Si 1-gen-2008 D'Angelo, D; Mirabella, Salvatore; Bruno, Elena; Pulvirenti, G; Terrasi, Antonio; Bisognin, G; Berti, M; Bongiorno, C; Raineri, V.
Localization of He induced nanovoids in buried Si1-xGex thin films 1-gen-2008 D'Angelo, D; Mirabella, Salvatore; Bruno, Elena; Terrasi, Antonio; Bongiorno, C; Giannazzo, F; Raineri, V; Bisognin, G; Berti, M.
Mechanism of B diffusion in crystalline Ge under proton irradiation 1-gen-2009 Bruno, Elena; Mirabella, Salvatore; Scapellato, G; Impellizzeri, G; Terrasi, Antonio; Priolo, Francesco; Napolitani, E; DE SALVADOR, D; Mastromatteo, M; Carnera, A.
He implantation induced nanovoids in crystalline Si 1-gen-2009 Kilpelainen, S; Kuitunen, K; Slotte, J; Tuomisto, F; Bruno, E; Mirabella, S; Priolo, F
Carrier mobility degradation in highly B-doped junctions 1-gen-2009 Maria, Aboy; Lourdes, Pelaz; Pedro, Lopez; Bruno, Elena; Mirabella, Salvatore file da validare
B activation and clustering in ion-implanted Ge 1-gen-2009 Impellizzeri, G; Mirabella, Salvatore; Bruno, Elena; Piro, A. M.; Grimaldi, Maria Grazia
Vacancy engineering by He induced nanovoids in crystalline Si 1-gen-2009 Kilpelainen, S; Kuitunen, K; Tuomisto, F; Slotte, J; Bruno, Elena; Mirabella, Salvatore; Priolo, Francesco
Diffusion and clustering of B in Si: basics and defect engineering 1-gen-2010 Bruno, Elena file da validare
High-level incorporation of antimony in germanium by laser annealing 1-gen-2010 Bruno, Elena; Scapellato, G. G.; Bisognin, G; Carria, E; Romano, Lucia; Carnera, A; Priolo, Francesco
Defects in Ge caused by sub-amorphizing self-implantation: Formation and dissolution 1-gen-2010 Bisognin, G; Vangelista, S; Mastromatteo, M; Napolitani, E; De Salvador, D; Carnera, A; Berti, M; Bruno, Elena; Scapellato, G; Terrasi, Antonio
Recent Insights in the Diffusion of Boron in Silicon and Germanium 1-gen-2010 Mirabella, Salvatore; De Salvador, D.; Bruno, E.; Napolitani, E.; Scapellato, G. G.; Mastromatteo, M.; Impellizzeri, G.; Bisognin, G.; Boninelli, S.; Terrasi, Antonio; Carnera, A.; Priolo, Francesco file da validare
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